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1、题目:光学显微镜金相检测的核心原理是利用光的什么特性形成微观图像
选项
A. 衍射和干涉
B. 反射和折射
C. 偏振和散射
D. 吸收和透射
2、题目:原子力显微镜(AFM)检测的核心原理是测量探针与样品表面的
A. 电磁作用力
B. 范德华力
C. 静电力
D. 万有引力
3、题目:扫描电镜(SEM)金相制样中,对于绝缘样品(如陶瓷、聚合物)的关键预处理是
A. 研磨抛光
B. 超声清洗
C. 喷镀导电层(金/铂/碳)
D. 化学腐蚀
4、题目:光学显微镜金相检测中,物镜的数值孔径(NA)与分辨率的关系是
A. NA越大,分辨率越低
B. NA越大,分辨率越高
C. NA与分辨率无关
D. NA与分辨率呈线性反比
5、题目:AFM检测中,“轻敲模式”的核心优势是
A. 成像速度最快
B. 对样品损伤最小
C. 分辨率最高
D. 仅适用于导电样品
6、题目:SEM金相分析中,二次电子(SE)成像的主要应用是
A. 观察元素成分分布
B. 呈现样品表面三维形貌
C. 分析晶体结构
D. 检测内部缺陷
7、题目:光学显微镜金相制样中,研磨的核心目的是
A. 去除切割损伤层,获得平整表面
B. 获得镜面光滑表面
C. 凸显微观组织对比度
D. 去除表面氧化膜
8、题目:AFM检测的横向分辨率通常为
A. 微米级(1~10μm)
B. 纳米级(0.1~10nm)
C. 亚纳米级(<0.1nm)
D. 毫米级(1~10mm)
9、题目:SEM金相检测中,加速电压的选择依据不包括
A. 样品导电性
B. 成像分辨率要求
C. 样品厚度
D. 样品化学稳定性
10、题目:光学显微镜金相检测中,偏光显微镜的核心应用是
A. 观察透明样品
B. 区分晶体与非晶体组织
C. 提高图像对比度
D. 测量晶粒尺寸
11、题目:AFM制样中,样品的关键要求是
A. 必须导电
B. 必须透明
C. 表面清洁且干燥
D. 必须为块状样品
12、题目:SEM金相分析中,背散射电子(BSE)成像的灰度差异反映样品的
A. 表面粗糙度
B. 原子序数差异
C. 晶体结构差异
D. 厚度差异
13、题目:光学显微镜金相制样中,化学腐蚀的核心目的是
A. 去除表面划痕
B. 凸显微观组织(晶界、相界)
C. 提高样品平整度
D. 增强样品导电性
14、题目:AFM检测中,“接触模式”的适用场景是
A. 软质样品
B. 高分辨率成像需求
C. 粗糙表面样品
D. 易损伤样品
15、题目:SEM金相制样中,线切割的核心优势是
A. 切割速度最快
B. 热影响区最小
C. 成本最低
D. 适用于所有材料
16、题目:光学显微镜金相检测中,总放大倍数的计算公式是
A. 物镜放大倍数+目镜放大倍数
B. 物镜放大倍数×目镜放大倍数
C. 物镜放大倍数
D. 目镜放大倍数
17、题目:AFM检测中,悬臂梁的共振频率影响
A. 成像分辨率
B. 成像速度
C. 探针与样品的作用力灵敏度
D. 样品兼容性
18、题目:SEM金相分析中,EDS(能量色散谱)联用的核心作用是
A. 提高成像分辨率
B. 分析样品元素组成及分布
C. 观察晶体取向
D. 检测样品硬度
19、题目:光学显微镜金相制样中,抛光的常用方法不包括
A. 机械抛光
B. 电解抛光
C. 化学抛光
D. 超声抛光
20、题目:AFM检测中,探针尖端半径与分辨率的关系是
A. 半径越大,分辨率越高
B. 半径越小,分辨率越高
C. 半径与分辨率无关
D. 半径与分辨率呈线性关系
21、题目:SEM金相检测中,工作距离(样品与物镜距离)通常为
A. 1~5mm
B. 5~30mm
C. 30~100mm
D. 100~200mm
22、题目:光学显微镜金相检测中,明场成像的原理是
A. 利用样品的反射光成像
B. 利用样品的透射光成像
C. 利用样品的偏振光成像
D. 利用样品的散射光成像
23、题目:AFM检测中,“非接触模式”的核心优势是
A. 对样品无损伤
B. 成像速度最快
D. 适用于粗糙表面
24、题目:SEM金相制样中,超声清洗的核心目的是
A. 去除表面研磨粉、油污
B. 腐蚀样品表面
C. 增强样品导电性
D. 减小表面粗糙度
25、题目:光学显微镜金相检测中,暗场成像的核心优势是
A. 成像速度快
B. 增强微小缺陷的对比度
C. 操作简单
D. 适用于所有样品
26、题目:AFM检测中,扫描速度影响
B. 图像信噪比
C. 样品损伤程度
D. 以上都是
27、题目:SEM金相分析中,电子束斑尺寸与成像分辨率的关系是
A. 束斑越大,分辨率越高
B. 束斑越小,分辨率越高
C. 束斑与分辨率无关
D. 束斑与分辨率呈反比
28、题目:光学显微镜金相制样中,镶嵌的适用场景是
A. 大尺寸样品
B. 形状不规则、易碎样品(粉末/薄片)
C. 导电性能差的样品
D. 需要腐蚀的样品
29、题目:AFM检测中,常用于表征样品表面粗糙度的参数是
A. Ra(算术平均粗糙度)
B. Rz(最大高度差)
C. Rq(均方根粗糙度)
30、题目:SEM金相检测中,加速电压过高会导致的问题是
A. 分辨率降低
B. 样品表面损伤(熔化/分解)
C. 景深减小
D. 信号强度减弱
31、题目:光学显微镜金相检测中,物镜的放大倍数通常不包括
A. 10×
B. 40×
C. 100×(油浸)
D. 1000×
32、题目:AFM检测中,“磁力模式”的核心应用是
A. 观察磁性材料的磁畴结构
B. 测量样品的导电性
C. 分析样品的化学成分
D. 检测样品的弹性模量
33、题目:SEM金相制样中,对于韧性材料(低碳钢)的切割推荐方法是
A. 砂轮切割
B. 线切割
C. 金刚石锯片切割
D. 等离子切割
34、题目:光学显微镜金相检测中,油浸物镜的核心作用是
A. 提高放大倍数
B. 提高数值孔径(NA),增强分辨率
C. 保护物镜镜头
D. 增强图像亮度
35、题目:AFM检测中,样品的平整度要求是
A. 必须为镜面光滑
B. 表面起伏小于悬臂梁量程(通常几微米)
C. 无需平整,任意表面均可
D. 表面粗糙度Ra≤0.1μm
36、题目:SEM金相分析中,景深与放大倍数的关系是
A. 放大倍数越高,景深越大
B. 放大倍数越高,景深越小
C. 景深与放大倍数无关
D. 景深与放大倍数呈线性关系
37、题目:光学显微镜金相制样中,冷镶嵌与热镶嵌的主要区别是
A. 冷镶嵌无需加热,适合热敏样品
B. 热镶嵌成型更快,适合所有样品
C. 冷镶嵌分辨率更高
D. 热镶嵌导电性更好
38、题目:AFM检测中,力-距离曲线的核心应用是
A. 测量样品的表面形貌
B. 分析样品的力学性能(弹性模量、粘附力)
C. 确定样品的元素组成
D. 观察样品的晶体结构
39、题目:SEM金相检测中,样品的倾斜角度对二次电子成像的影响是
A. 倾斜角度越大,分辨率越高
B. 倾斜角度越大,表面形貌立体感越强
C. 倾斜角度越小,信号强度越强
D. 倾斜角度与成像质量无关
40、题目:光学显微镜金相检测中,图像分析软件的核心功能不包括
A. 晶粒尺寸测量
B. 相含量统计
C. 元素成分分析
D. 缺陷计数
41、题目:AFM检测中,扫描范围通常为
A. 1~10μm
B. 10~100μm
C. 100μm~1mm
D. 无固定范围,可灵活调整
42、题目:SEM金相制样中,化学腐蚀剂的选择依据是
A. 样品的导电性
B. 样品的化学成分和组织
C. 样品的硬度
D. 样品的尺寸
43、题目:光学显微镜金相检测中,偏光显微镜的起偏器和检偏器的作用是
A. 增强图像亮度
B. 产生偏振光,区分晶体组织
C. 提高分辨率
D. 减小图像噪声
44、题目:AFM检测中,“静电力模式”的核心应用是
A. 观察样品的表面电势分布
B. 测量样品的磁性
C. 分析样品的力学性能
D. 检测样品的粗糙度
45、题目:SEM金相分析中,束流大小与信号强度的关系是
A. 束流越大,信号强度越强
B. 束流越大,信号强度越弱
C. 束流与信号强度无关
D. 束流与信号强度呈反比
46、题目:光学显微镜金相制样中,机械抛光的最终抛光膏粒度通常为
A. 1~3μm
B. 0.1~0.5μm
C. 5~10μm
D. 10~20μm
47、题目:AFM检测中,探针的材料通常为
A. 钨
B. 硅或氮化硅
C. 金刚石
D. 铂
48、题目:SEM金相检测中,真空度对成像的影响是
A. 真空度越高,分辨率越低
B. 真空度越高,电子束散射越小,成像越清晰
C. 真空度越低,信号强度越强
D. 真空度与成像质量无关
49、题目:光学显微镜金相检测中,常用于评定晶粒尺寸的标准方法是
A. 截距法
B. 面积法
C. 比较法
50、题目:AFM检测中,“相位成像模式”的核心优势是
A. 分辨率最高
B. 能同时获取形貌和材质差异信息
C. 成像速度最快
D. 对样品无损伤
51、题目:SEM金相制样中,对于粉末样品的固定方式是
A. 机械夹持
B. 镶嵌在树脂中
C. 用导电胶粘贴在样品台上
D. 真空吸附
52、题目:光学显微镜金相检测中,暗场成像与明场成像的主要区别是
A. 暗场成像分辨率更高
B. 暗场成像背景为暗,缺陷为亮
C. 暗场成像操作更简单
D. 暗场成像适用于透明样品
53、题目:AFM检测中,扫描速率通常为
A. 0.1~1Hz
B. 1~10Hz
C. 10~100Hz
D. 100~1000Hz
54、题目:SEM金相分析中,EBSD(电子背散射衍射)的核心应用是
A. 元素定量分析
B. 晶体取向和织构分析
C. 表面形貌三维重建
D. 内部缺陷检测
55、题目:光学显微镜金相制样中,超声清洗的时间通常为
A. 1~5分钟
B. 5~15分钟
C. 15~30分钟
D. 30~60分钟
56、题目:AFM检测中,样品的导电性要求是
B. 必须绝缘
C. 无明确要求,导电/绝缘均可
D. 仅半导体样品适用
57、题目:SEM金相检测中,样品台的移动范围通常为
A. ±10mm
B. ±50mm
C. ±100mm
D. ±200mm
58、题目:光学显微镜金相检测中,相含量的定量分析方法是
A. 灰度阈值法
B. 计数法
C. 称重法
59、题目:AFM检测中,“摩擦力模式”的核心应用是
A. 测量样品表面的摩擦力分布
B. 观察样品的表面形貌
D. 检测样品的磁性
60、题目:SEM金相制样中,对于含有第二相颗粒的合金样品(如铝合金中的Si颗粒),抛光时需注意
A. 高压力快速抛光
B. 低压力慢速抛光,避免颗粒脱落
C. 必须电解抛光
D. 无需化学腐蚀
61、题目:光学显微镜金相检测中,物镜的分辨率公式σ=0.61λ/NA,其中λ代表
A. 物镜的数值孔径
B. 光的波长
C. 物镜的放大倍数
D. 样品的厚度
62、题目:AFM检测中,悬臂梁的弹性常数影响
B. 对样品作用力的灵敏度
C. 成像速度
63、题目:SEM金相分析中,二次电子的能量范围通常为
A. 0~50eV
B. 50~1000eV
C. 1000~5000eV
D. 5000~10000eV
64、题目:光学显微镜金相制样中,腐蚀时间的控制依据是
A. 样品的厚度
B. 样品的成分和组织
C. 腐蚀剂的浓度
65、题目:AFM检测中,常用于观察生物样品的模式是
A. 接触模式
B. 轻敲模式
C. 非接触模式
D. 磁力模式
66、题目:SEM金相检测中,与光学显微镜相比,最显著的优势是
A. 设备成本低
B. 景深大,三维形貌感强
C. 无需样品预处理
D. 可观察透明样品
67、题目:光学显微镜金相检测中,图像的放大倍数与视野范围的关系是
A. 放大倍数越高,视野范围越大
B. 放大倍数越高,视野范围越小
C. 视野范围与放大倍数无关
D. 视野范围与放大倍数呈线性关系
68、题目:AFM检测中,“Kelvin探针力模式”的核心应用是
A. 测量样品的表面电势
B. 分析样品的力学性能
C. 观察样品的磁畴结构
69、题目:SEM金相制样中,喷镀导电层的厚度通常为
A. 1~5nm
B. 5~20nm
C. 20~50nm
D. 50~100nm
70、题目:光学显微镜金相检测中,偏光显微镜观察金属材料时,需将样品进行的预处理是
B. 化学腐蚀
C. 电解抛光
D. 阳极氧化
71、题目:AFM检测中,扫描图像的像素数通常为
A. 256×256
B. 512×512
C. 1024×1024
72、题目:SEM金相分析中,背散射电子的能量范围通常为
A. 接近入射电子能量
B. 0~50eV
C. 50~1000eV
D. 1000~5000eV
73、题目:光学显微镜金相制样中,热镶嵌的温度通常为
A. 50~100℃
B. 100~150℃
C. 150~200℃
D. 200~250℃
74、题目:AFM检测中,“相位差”反映样品的
A. 表面形貌
B. 材质差异(硬度、粘附力)
C. 导电性
D. 磁性
75、题目:SEM金相检测中,样品的表面粗糙度要求是
A. Ra≤0.1μm
B. Ra≤1μm
C. Ra≤3.2μm
D. 无严格要求,清洁即可
76、题目:光学显微镜金相检测中,常用的光源是
A. 白炽灯
B. 荧光灯
C. LED灯
77、题目:AFM检测中,“探针磨损”会导致的问题是
B. 图像失真
C. 对样品作用力测量不准确
78、题目:SEM金相分析中,EDS的元素检测范围通常为
A. H~U
B. Li~U
C. C~U
D. O~U
79、题目:光学显微镜金相制样中,冷镶嵌树脂的固化时间通常为
A. 几分钟
B. 几十分钟
C. 几小时
D. 几天
80、题目:AFM检测中,“振幅调制模式”是指
D. 相位模式
81、题目:SEM金相检测中,加速电压过低会导致的问题是
A. 样品损伤增大
B. 分辨率降低
C. 信号强度增强
D. 景深减小
82、题目:光学显微镜金相检测中,“比较法”评定晶粒尺寸的核心是
A. 与标准晶粒图谱对比
B. 测量晶粒的截距长度
C. 计算晶粒的面积
D. 计数晶粒的数量
83、题目:AFM检测中,样品的温度要求是
A. 必须室温(25℃)
B. 可在-196℃~1000℃范围内调整
C. 必须高于室温
D. 必须低于室温
84、题目:SEM金相制样中,金刚石锯片切割的适用场景是
A. 硬质材料(如淬火钢、陶瓷)
B. 韧性材料(如低碳钢)
C. 软质材料(如铝、铜)
D. 热敏材料(如聚合物)
85、题目:光学显微镜金相检测中,油浸物镜的使用注意事项是
A. 无需清洁,直接使用
B. 使用后需立即清洁镜头
C. 可与干燥物镜混用
D. 无需调整焦距
86、题目:AFM检测中,“Z轴量程”指的是
A. 样品的横向扫描范围
B. 样品的纵向高度范围
C. 探针的横向移动范围
D. 探针的纵向移动范围
87、题目:SEM金相分析中,与TEM(透射电镜)相比,SEM的优势是
A. 分辨率更高
B. 样品制备更简单(无需超薄切片)
C. 可分析元素成分
D. 可观察晶体结构
88、题目:光学显微镜金相检测中,图像分析软件的常用功能不包括
B. 缺陷标注
D. 相含量统计
89、题目:光学显微镜金相检测中,晶粒度的定义是
A. 晶粒的重量
B. 晶粒的体积
C. 晶粒的大小及均匀分布程度
D. 晶粒的数量
90、题目:光学显微镜观察金属夹杂物时,夹杂物的评级主要依据
A. 夹杂物的颜色
B. 夹杂物的形状、大小及分布
C. 夹杂物的硬度
D. 夹杂物的化学成分
91、题目:光学显微镜检测渗碳层深度时,常用的腐蚀剂是
A. 4%硝酸酒精溶液
B. 苦味酸溶液
C. 氯化铁盐酸溶液
D. Keller试剂
92、题目:光学显微镜下,渗氮层的典型组织特征是
A. 珠光体组织
B. 马氏体组织
C. 氮化物弥散分布的组织
D. 铁素体组织
93、题目:光学显微镜金相分析中,评定晶粒度的常用方法是
A. 称重法
B. 截距法
C. 硬度法
D. 化学分析法
94、题目:光学显微镜观察夹杂物时,按形态分类,不属于常见夹杂物类型的是
A. 球状夹杂物
B. 条状夹杂物
C. 链状夹杂物
D. 透明夹杂物
95、题目:光学显微镜检测渗碳层深度时,渗碳层与基体的组织差异主要是
A. 渗碳层为铁素体,基体为珠光体
B. 渗碳层碳含量高,组织多为马氏体/珠光体,基体为铁素体/珠光体
C. 渗碳层为奥氏体,基体为马氏体
D. 渗碳层与基体组织完全一致
96、题目:光学显微镜下,晶粒度评级中,1级晶粒度与8级晶粒度的关系是
A. 1级晶粒度比8级更细小
B. 8级晶粒度比1级更细小
C. 两者晶粒度大小一致
D. 无法比较
97、题目:光学显微镜观察金属夹杂物时,按化学成分分类,不属于常见类型的是
A. 氧化物夹杂物
B. 硫化物夹杂物
C. 氮化物夹杂物
D. 有机夹杂物
98、题目:光学显微镜检测渗氮层深度时,渗氮层的硬度通常比基体
A. 更低
B. 更高
C. 相同
D. 无规律
99、题目:光学显微镜金相分析中,通过观察晶粒形态可判断的热处理工艺是
A. 退火
B. 正火
C. 淬火
100、题目:光学显微镜下,夹杂物的评级标准通常以什么为单位
A. 毫米(mm)
B. 微米(μm)
C. 厘米(cm)
D. 纳米(nm)
101、题目:光学显微镜检测渗碳层深度时,渗碳层深度的测量起点是
A. 工件表面
B. 渗碳层与基体的中间位置
C. 基体中心
D. 任意位置
102、题目:光学显微镜下,珠光体晶粒与铁素体晶粒的主要区别是
A. 珠光体晶粒为白色,铁素体为黑色
B. 珠光体为层片状组织,铁素体为单相固溶体组织
C. 珠光体晶粒更大
D. 铁素体硬度更高
103、题目:光学显微镜观察夹杂物时,减少夹杂物误判的关键是
A. 仅观察单一视场
B. 多视场随机观察
C. 仅观察表面
D. 无需腐蚀直接观察
104、题目:光学显微镜检测渗氮层时,常用的腐蚀剂是
B. 苦味酸酒精溶液
C. 盐酸铁铵溶液
D. 硫酸溶液
105、题目:光学显微镜金相分析中,晶粒度评定的标准图谱依据是
A. 晶粒的重量分布
B. 晶粒的尺寸分布
C. 不同等级晶粒度的典型形貌
D. 晶粒的数量分布
106、题目:光学显微镜下,硫化物夹杂物的典型颜色是
A. 黑色
B. 白色
C. 黄色或棕黄色
D. 透明色
107、题目:光学显微镜检测渗碳层时,若渗碳温度过高,会出现的组织缺陷是
A. 晶粒细化
B. 晶粒粗大
C. 渗碳层过薄
D. 无渗碳层
108、题目:光学显微镜下,渗氮层的深度测量通常采用
A. 直尺测量
B. 游标卡尺测量
C. 图像分析软件测量
D. 称重法测量
109、题目:光学显微镜金相检测中,判断金属材料是否经过退火处理的关键依据是
A. 晶粒是否均匀细小
B. 是否存在马氏体组织
C. 是否存在渗碳层
D. 夹杂物含量
110、题目:光学显微镜观察氧化物夹杂物时,氧化物的典型特征是
A. 塑性好,易变形
B. 脆性大,多为角状或粒状
C. 颜色鲜艳
D. 易溶解于酸
111、题目:光学显微镜检测渗碳层时,渗碳层的组织组成不包括
A. 马氏体
B. 珠光体
C. 铁素体
D. 奥氏体
112、题目:光学显微镜下,晶粒度评级中,平均晶粒度的计算公式(N为晶粒度等级,d为平均晶粒直径)是
A. d=2^(8-N)/100mm
B. d=2^(N-8)/100mm
C. d=2^(10-N)/100mm
D. d=2^(N-10)/100mm
113、题目:光学显微镜观察夹杂物时,按分布形态,“链状分布”常见于
D. 碳化物夹杂物
114、题目:光学显微镜检测渗氮层时,若渗氮时间不足,会导致
A. 渗氮层过厚
B. 渗氮层过薄
C. 渗氮层硬度过低
D. 渗氮层硬度过高
115、题目:光学显微镜金相分析中,通过观察马氏体组织的粗细可判断的热处理工艺参数是
A. 加热温度
B. 冷却速度
C. 保温时间
D. 加热方式
116、题目:光学显微镜下,夹杂物的评级通常分为几个等级
A. 3个
B. 5个
C. 8个
D. 10个
117、题目:光学显微镜检测渗碳层深度时,试样的制备要求是
A. 无需腐蚀,直接观察
B. 仅需研磨抛光,无需腐蚀
C. 研磨抛光后腐蚀,显示组织界限
D. 仅需腐蚀,无需研磨抛光
118、题目:光学显微镜下,渗氮层与基体的界限识别依据是
A. 颜色差异
B. 组织差异(氮化物分布)
C. 硬度差异
119、题目:光学显微镜金相检测中,晶粒度评级的视场选择要求是
A. 选择晶粒最大的视场
B. 选择晶粒最小的视场
C. 随机选择多个视场,取平均值
D. 仅选择中心视场
120、题目:光学显微镜观察夹杂物时,“点状夹杂物”的尺寸通常为
A. 小于1μm
B. 1-10μm
C. 10-100μm
D. 大于100μm
121、题目:光学显微镜检测渗碳层时,若工件表面脱碳,会导致
A. 渗碳层深度测量值偏大
B. 渗碳层深度测量值偏小
C. 渗碳层硬度升高
D. 渗碳层组织更均匀
122、题目:光学显微镜下,正火处理后的晶粒形态特征是
A. 晶粒粗大且不均匀
B. 晶粒细小且均匀
C. 晶粒呈马氏体形态
D. 晶粒呈网状分布
123、题目:光学显微镜观察夹杂物时,不属于硫化物夹杂物典型特征的是
A. 颜色为黄色或棕黄色
B. 形态多为球状或条状
C. 塑性好,易随基体变形
D. 硬度高,易脆裂
124、题目:光学显微镜检测渗氮层深度时,渗氮层的深度范围通常为
A. 0.01-0.1mm
B. 0.1-1mm
C. 1-10mm
D. 10-100mm
125、题目:光学显微镜金相分析中,通过观察晶粒边界的清晰度可判断的热处理缺陷是
A. 过热
B. 过烧
C. 脱碳
D. 增碳
126、题目:光学显微镜下,氮化物夹杂物的典型颜色是
C. 黄色
D. 棕色
127、题目:光学显微镜检测渗碳层时,常用的放大倍数是
A. 100×
B. 400×
C. 1000×
D. 5000×
128、题目:光学显微镜金相检测中,晶粒度等级越高,材料的强度通常
A. 越低
B. 越高
C. 不变
129、题目:光学显微镜观察夹杂物时,“簇状分布”常见于
A. 硫化物夹杂物
B. 氧化物夹杂物
130、题目:光学显微镜检测渗氮层时,若渗氮温度过低,会导致
C. 渗氮层硬度过高
D. 氮化物粗大
131、题目:光学显微镜下,淬火处理后的组织特征是
C. 铁素体组织
D. 奥氏体组织
132、题目:光学显微镜观察夹杂物时,夹杂物的评级需参考的标准是
A. 硬度标准
B. 化学成分标准
C. 金相图谱标准
D. 重量标准
133、题目:光学显微镜检测渗碳层时,渗碳层的组织与基体组织的主要区别是
A. 碳含量不同
B. 合金元素含量不同
C. 晶粒大小不同
D. 晶体结构不同
134、题目:光学显微镜金相分析中,晶粒度评定的“比较法”是指
A. 与标准晶粒度图谱对比
135、题目:光学显微镜下,碳化物夹杂物的典型形态是
A. 球状
B. 条状
C. 网状或片状
D. 链状
136、题目:光学显微镜检测渗氮层时,试样的腐蚀时间通常为
A. 1-5秒
B. 5-15秒
C. 15-30秒
D. 30-60秒
137、题目:光学显微镜金相检测中,判断材料是否经过淬火+回火处理的依据是
A. 是否存在马氏体组织
B. 是否存在回火索氏体/回火屈氏体组织
C. 是否存在铁素体组织
D. 是否存在珠光体组织
138、题目:光学显微镜观察夹杂物时,“条状夹杂物”的长径比通常大于
A. 2:1
B. 5:1
C. 10:1
D. 20:1
139、题目:光学显微镜检测渗碳层深度时,若试样研磨抛光不当,会导致
C. 组织界限模糊,无法准确测量
D. 渗碳层硬度升高
140、题目:光学显微镜下,退火处理后的组织特征是
A. 马氏体组织
B. 珠光体+铁素体均匀组织
C. 氮化物弥散组织
D. 碳化物网状组织
141、题目:光学显微镜观察夹杂物时,夹杂物的数量统计通常以什么为单位
A. 个/mm
B. 个/cm
C. 个/m
D. 个/mm
142、题目:光学显微镜检测渗氮层时,渗氮层的硬度分布特征是
A. 从表面到基体逐渐升高
B. 从表面到基体逐渐降低
C. 表面和基体硬度一致
D. 无规律分布
143、题目:光学显微镜金相分析中,晶粒度的“面积法”评定是指
A. 测量晶粒的重量
B. 测量晶粒的体积
C. 测量晶粒的截面积
D. 计算单位面积内的晶粒数量
144、题目:光学显微镜下,氧化物夹杂物与硫化物夹杂物的核心区别是
A. 颜色
B. 硬度和塑性
C. 尺寸
D. 分布形态
145、题目:光学显微镜检测渗碳层时,常用的试样取向是
A. 平行于渗碳表面
B. 垂直于渗碳表面
C. 任意取向
D. 45°倾斜于渗碳表面
146、题目:光学显微镜金相检测中,晶粒度细化的主要目的是
A. 提高材料的硬度
B. 提高材料的强度和韧性
C. 降低材料的硬度
D. 降低材料的强度
147、题目:光学显微镜观察夹杂物时,“透明夹杂物”在金属材料中通常是
A. 氧化物
B. 硫化物
C. 氮化物
D. 碳化物
148、题目:光学显微镜检测渗氮层时,若渗氮过程中氨气分解不完全,会导致
D. 渗氮层组织均匀
149、题目:光学显微镜下,回火处理后的马氏体组织会转变为
A. 珠光体
B. 铁素体
C. 回火马氏体/回火索氏体
150、题目:光学显微镜观察夹杂物时,夹杂物的评级需考虑的因素不包括
A. 夹杂物的形态
B. 夹杂物的尺寸
C. 夹杂物的化学成分
D. 夹杂物的分布
151、题目:光学显微镜检测渗碳层深度时,渗碳层的有效深度定义是
A. 从表面到碳含量0.5%的位置
B. 从表面到碳含量0.8%的位置
C. 从表面到碳含量0.15%的位置
D. 从表面到碳含量1.0%的位置
152、题目:光学显微镜金相分析中,通过观察组织中的魏氏组织可判断的热处理工艺是
D. 回火
153、题目:光学显微镜下,氮化物夹杂物的尺寸通常为
B. 1-5μm
C. 5-10μm
D. 大于10μm
154、题目:光学显微镜检测渗碳层时,若试样腐蚀过度,会导致
D. 渗碳层硬度降低
155、题目:光学显微镜金相检测中,晶粒度评级的“截距法”计算公式(N为晶粒度等级,L为平均截距)是
A. N=2^(8-log(1/L))
B. N=2^(log(1/L)-8)
C. N=8-log(L)
D. N=log(L)-8
156、题目:光学显微镜观察夹杂物时,夹杂物的“塑性变形能力”主要取决于
B. 夹杂物的化学成分
C. 夹杂物的尺寸
157、题目:光学显微镜检测渗氮层时,渗氮层的组织均匀性主要取决于
A. 渗氮温度
B. 渗氮时间
C. 氨气流量
158、题目:光学显微镜下,淬火+低温回火后的组织是
A. 回火马氏体
B. 回火屈氏体
C. 回火索氏体
D. 珠光体
159、题目:光学显微镜观察夹杂物时,夹杂物的“评级级别越高”表示
A. 夹杂物越少、分布越均匀
B. 夹杂物越多、分布越密集
C. 夹杂物尺寸越小
D. 夹杂物塑性越好
160、题目:光学显微镜检测渗碳层深度时,常用的图像分析软件功能是
A. 硬度测量
B. 长度测量
C. 化学成分分析
D. 重量测量
161、题目:光学显微镜金相分析中,晶粒度的“ASTM等级”与晶粒大小的关系是
A. 等级越高,晶粒越大
B. 等级越高,晶粒越小
C. 等级与晶粒大小无关
D. 等级为8时晶粒最大
162、题目:光学显微镜下,硫化物夹杂物的塑性变形特征是
A. 沿变形方向伸长呈条状或链状
B. 保持球状不变
C. 脆裂呈角状
D. 聚集呈簇状
163、题目:光学显微镜检测渗氮层时,渗氮层的脆性主要与什么相关
A. 渗氮层厚度
B. 氮化物的大小和分布
C. 渗氮温度
D. 渗氮时间
164、题目:光学显微镜金相检测中,现场快速检测晶粒度的方法是
D. 称重法
165、题目:光学显微镜观察夹杂物时,夹杂物的“清洁度”评级是指
B. 夹杂物的数量和大小
166、题目:光学显微镜检测渗碳层时,若渗碳后未淬火,渗碳层的组织是
C. 奥氏体
D. 铁素体
167、题目:光学显微镜下,晶界腐蚀的目的是
A. 增强晶粒的颜色
B. 显示晶粒边界,便于晶粒度评定
C. 去除夹杂物
D. 提高试样表面硬度
168、题目:光学显微镜观察夹杂物时,不属于氧化物夹杂物的是
A. AlO
B. MnO
C. MnS
D. SiO
169、题目:光学显微镜检测渗氮层时,渗氮层的深度测量需选取的视场数量是
A. 1个
B. 至少3个
C. 至少5个
D. 至少10个
交卷
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